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Hellma-CaF?晶體具備四大核心優(yōu)勢(shì),精準(zhǔn)解決國(guó)產(chǎn)激光設(shè)備痛點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間: 2026-05-15  點(diǎn)擊次數(shù): 102次

       Hellma 總部坐落于德國(guó)耶拿光學(xué)谷,擁有近百年光學(xué)精密制造經(jīng)驗(yàn),旗下 Hellma Materials 專(zhuān)注光學(xué)晶體、精密光學(xué)元件研發(fā)生產(chǎn),承襲原肖特(Schott Lithotec)光刻級(jí)晶體核心技術(shù),是全球少數(shù)掌握端氟化鈣(CaF?)晶體規(guī)模化生產(chǎn)的企業(yè)之一。品牌秉持 “When every photon counts®" 的技術(shù)理念,以嚴(yán)苛的品控標(biāo)準(zhǔn)、的晶體生長(zhǎng)與精密加工工藝,產(chǎn)品光譜覆蓋 130nm 深紫外至 14μm 遠(yuǎn)紅外全波段,遠(yuǎn)銷(xiāo)全球數(shù)十個(gè)國(guó)家,在工業(yè)激光、精密光學(xué)等領(lǐng)域樹(shù)立了 “高純度、高均勻性、高穩(wěn)定性" 。

Hellma

二、核心產(chǎn)品:激光級(jí)光學(xué)晶體,適配國(guó)內(nèi)全場(chǎng)景激光應(yīng)用

Hellma 光學(xué)晶體以氟化鈣(CaF?)晶體為核心旗艦產(chǎn)品,同時(shí)涵蓋氟化鋇(BaF?)等高性能晶體,針對(duì)國(guó)內(nèi)激光工業(yè)應(yīng)用專(zhuān)項(xiàng)優(yōu)化,適配準(zhǔn)分子激光、超快激光、高功率紅外激光等主流激光類(lèi)型。

1. 氟化鈣(CaF?)晶體:激光工業(yè) “全能型核心材料"

作為國(guó)內(nèi)激光應(yīng)用的主流選型,Hellma CaF?晶體具備四大核心優(yōu)勢(shì),精準(zhǔn)解決國(guó)產(chǎn)激光設(shè)備痛點(diǎn):
  • 超寬波段高透射:透光范圍覆蓋 130nm(深紫外)至 9μm(紅外),193nm 波長(zhǎng)下內(nèi)透過(guò)率超 99.3%/cm,無(wú)明顯吸收損耗,適配紫外、可見(jiàn)光、紅外全波段激光系統(tǒng),助力激光設(shè)備提升能量利用率。

  • 超低色散高均勻性:折射率 nd=1.43384,阿貝數(shù) vd=95.23,色散系數(shù)僅為普通光學(xué)玻璃的 1/5,可最大限度消除色差;折射率均勻性?xún)?yōu)于 0.5ppm@633nm,杜絕波前畸變,保障激光光束一致性與聚焦精度,適配激光打標(biāo)、切割、精密雕刻等高精度場(chǎng)景。

  • 超高激光耐久性:針對(duì) 157nm、193nm、248nm 準(zhǔn)分子激光專(zhuān)項(xiàng)優(yōu)化,激光損傷閾值超 10J/cm2@193nm,遠(yuǎn)高于石英玻璃及普通 CaF?材料;長(zhǎng)期高能量脈沖激光輻照下無(wú)燒蝕、無(wú)透射率衰減,應(yīng)力雙折射控制在≤0.5nm/cm,大幅延長(zhǎng)激光諧振腔、窗口、聚焦透鏡等核心器件壽命,降低設(shè)備維護(hù)成本。

  • 優(yōu)異熱學(xué)與機(jī)械性能:熱導(dǎo)率達(dá) 9.71W/(m?K),可快速散除高功率激光產(chǎn)生的熱量,避免熱致畸變;大氣下使用溫度達(dá) 600℃,真空干燥時(shí)可達(dá) 800℃,機(jī)械強(qiáng)度高、抗潮解、耐化學(xué)腐蝕,適配工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)復(fù)雜嚴(yán)苛工況。

2. 產(chǎn)品等級(jí)與定制服務(wù):貼合國(guó)產(chǎn)激光設(shè)備差異化需求

為匹配國(guó)內(nèi)不同功率、不同精度的激光設(shè)備,Hellma CaF?晶體提供多等級(jí)選型:
  • DUV 級(jí)(157–193nm):超高均勻性(≤0.5ppm)、極低雙折射(≤0.5nm/cm),適配深紫外準(zhǔn)分子激光打標(biāo)、微細(xì)加工設(shè)備。

  • UV 級(jí)(193–400nm):折射率均勻性≤1ppm,雙折射≤1nm/cm,用于紫外激光雕刻、激光檢測(cè)儀器。

  • IR 級(jí)(0.78–9μm):紅外透過(guò)優(yōu)化,適配高功率 CO?激光切割、焊接設(shè)備及紅外激光雷達(dá)。

    同時(shí)支持全流程定制服務(wù):尺寸可定制 φ250mm 單晶、φ440mm 多晶,厚度最大 250mm;晶向可選 <100>、<111 > 等主流方向;表面可做研磨、拋光(λ/10、λ/20)、超精密拋光處理,可加工成圓盤(pán)、棱鏡、透鏡、窗口片等多種形態(tài),無(wú)縫適配國(guó)產(chǎn)激光設(shè)備的差異化裝配需求。

  • Hellma氟化鈣.jpg

三、國(guó)內(nèi)激光工業(yè)核心應(yīng)用場(chǎng)景

1. 激光加工設(shè)備

  • 激光切割 / 焊接設(shè)備:IR 級(jí) CaF?晶體作為紅外激光窗口、聚焦透鏡,耐受高功率激光沖擊,散熱快、變形小,提升切割焊接精度與穩(wěn)定性,適配金屬板材、管材加工設(shè)備。

  • 紫外激光打標(biāo) / 雕刻設(shè)備:DUV/UV 級(jí) CaF?晶體用于諧振腔鏡、光束傳輸窗口,高激光耐久性保障長(zhǎng)期連續(xù)工作,標(biāo)記清晰、無(wú)邊緣毛刺,廣泛應(yīng)用于電子元器件、五金、塑膠制品打標(biāo)。

  • 超快激光微細(xì)加工設(shè)備:低色散、高均勻性特性,適配飛秒 / 皮秒激光鉆孔、蝕刻、微結(jié)構(gòu)加工,保障加工精度達(dá)微米級(jí),滿(mǎn)足新能源、半導(dǎo)體等領(lǐng)域精密加工需求。

2. 激光檢測(cè)與精密光學(xué)儀器

  • 激光干涉儀、激光測(cè)長(zhǎng)儀:CaF?晶體作為核心光學(xué)元件,低應(yīng)力雙折射避免偏振畸變,保障測(cè)量精度,適配工業(yè)精密檢測(cè)、計(jì)量設(shè)備。

  • 激光粒度儀、光譜分析儀:高透射率、低色差特性,提升檢測(cè)數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性,用于化工、建材、醫(yī)藥等行業(yè)顆粒檢測(cè)與成分分析。

3. 激光設(shè)備核心組件

  • 激光諧振腔:高均勻性保障光束模式穩(wěn)定,提升激光輸出功率與光斑質(zhì)量。

  • 光束傳輸系統(tǒng):激光窗口、分束鏡采用 LD-A 級(jí)激光耐久性晶體,長(zhǎng)期工作無(wú)性能衰減,降低設(shè)備故障率。

四、選擇 Hellma 的核心價(jià)值:助力國(guó)產(chǎn)激光產(chǎn)業(yè)降本增效

  1. 提升設(shè)備性能上限:光學(xué)性能對(duì)標(biāo)國(guó)際頂尖標(biāo)準(zhǔn),助力國(guó)產(chǎn)激光設(shè)備突破精度、穩(wěn)定性瓶頸,縮小與國(guó)際設(shè)備差距。

  2. 降低全生命周期成本:高激光耐久性、長(zhǎng)使用壽命,減少核心器件更換頻率,降低設(shè)備停機(jī)維護(hù)時(shí)間,提升生產(chǎn)效率。

  3. 適配國(guó)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)升級(jí):多等級(jí)、定制化服務(wù),貼合國(guó)內(nèi)中端激光設(shè)備研發(fā)生產(chǎn)需求,助力激光產(chǎn)業(yè)向高精度、高功率、高穩(wěn)定性方向升級(jí)。


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